Elektronische Komponenten und Systeme müssen heutzutage immer gründlicher gereinigt werden, da dies einen entscheidenden Einfluss auf ihre Leistungsfähigkeit, Funktionalität, Zuverlässigkeit und Lebensdauer hat. Die steigenden Anforderungen an die technische Sauberkeit erfordern innovative Lösungen, die in der Lage sind, diese Anforderungen trocken, prozesssicher und nachhaltig zu erfüllen. Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems bietet eine skalierbare, reinraumgerechte und inlinefähige Lösung, die sich für eine Vielzahl von Reinigungsanwendungen eignet.
Inhaltsverzeichnis: Das erwartet Sie in diesem Artikel
Höchste Reinheitsstandards dank quattroClean-Schneestrahltechnologie
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems bietet eine innovative Lösung für die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Hierbei wird flüssiges Kohlendioxid als Reinigungsmedium verwendet, welches aus chemischen Produktionsprozessen und der Energiegewinnung aus Biomasse recycelt wird. Das Kohlendioxid wird durch eine spezielle Zweistoff-Ringdüse geleitet und dabei zu feinen Schneekristallen umgewandelt. Diese werden dann mittels eines Druckluftstrahls auf die zu reinigende Oberfläche gerichtet. Durch den thermischen, mechanischen und sublimativen Effekt des Kohlendioxids werden Kontaminationen effektiv entfernt, ohne dass Rückstände oder Feuchtigkeit zurückbleiben.
In der quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems werden die Schneekristalle mittels eines Druckluftstrahls auf die zu reinigende Oberfläche gelenkt. Durch die Kombination von thermischem, mechanischem, Lösemittel- und Sublimationseffekt werden sämtliche Kontaminationen entfernt. Das kristalline Kohlendioxid sublimiert dabei vollständig, sodass die behandelten Flächen trocken bleiben. Im Vergleich zu herkömmlichen Reinigungsmethoden entfällt der Bedarf an aufwendigen Spül- und Trocknungsprozessen.
Umfangreiche Untersuchungen haben bestätigt, dass die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems hervorragende Reinigungsergebnisse erzielt. Sie erfüllt die Anforderungen der Oberflächenreinheitsklasse (ORK) 1 nach VDI 2083, Blatt 9.1:2006 in Bezug auf partikuläre Restkontaminationen. Auch bei bereits nasschemisch gereinigten Bauteilen kann sie eine partikuläre Reinheit entsprechend ORK 0,1 wiederholgenau erreichen. Bei filmischen Rückständen erzielt sie ähnlich gute Reinigungsergebnisse wie andere Feinstreinigungsverfahren wie nasschemische und Plasmareinigung sowie vakuum-Ausheizen.
Nachhaltige Reinigung in der Elektronikindustrie mit quattroClean-Schneestrahltechnologie
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie setzt auf flüssiges Kohlendioxid als Reinigungsmedium, um elektronische Komponenten und Systeme effizient zu reinigen. Das Kohlendioxid wird durch eine spezielle Zweistoff-Ringdüse geleitet und beim Austritt zu feinen Schneekristallen entspannt. In Kombination mit dem Prozessgas von Linde erfüllt die Technologie die strengen Anforderungen des Green Screen-Zertifikats, das eine umweltfreundliche Reinigung ohne schädliche chemische Stoffe gewährleistet.
Reinraumgerechte Reinigungslösungen für optimale Sauberkeit und Qualität
acp systems bietet eine umfangreiche Auswahl an Reinigungslösungen, die eine flexible Anpassung an die individuellen Anforderungen und Produktionsbedingungen ermöglichen. Die Lösungen basieren auf standardisierten Modulen, die je nach Bedarf kombiniert und individuell konfiguriert werden können. Die Anlagen werden vollständig aus hochwertigem Edelstahl gefertigt und entsprechend den Reinraumklassen angepasst. Eine optimale Medienaufbereitung gewährleistet eine hohe Reinheitsqualität des Prozessmediums und der Druckluft. Bei speziellen Anwendungen in der Halbleiter-Produktion kann ein Gaswäscher integriert werden, um organische Stoffe effizient zu filtern.
Reinigungsversuche in validiertem Reinraum der Klasse ISO 7 bei acp systems
Im Reinraum-Technikum von acp systems werden Reinigungsversuche unter streng kontrollierten Bedingungen durchgeführt. Der validierte Reinraum der Klasse ISO 7 gewährleistet höchste Reinheitsstandards und ermöglicht die präzise Anpassung der Prozessparameter an die jeweilige Applikation. Die gewonnenen Erkenntnisse fließen direkt in teilespezifische Reinigungsprogramme ein, um eine optimale Reinigungsleistung und Zuverlässigkeit von elektronischen Komponenten und Systemen zu erzielen.
Die quattroClean-Schneestrahltechnologie von acp systems bietet eine zuverlässige Lösung für die Reinigung von elektronischen Komponenten und Systemen. Durch den Einsatz von flüssigem Kohlendioxid als Reinigungsmedium werden Kontaminationen effektiv entfernt. Die trockene Reinigung ermöglicht eine hohe Reinheitsqualität und verlängert die Lebensdauer der gereinigten Komponenten und Systeme. Die Technologie erfüllt die Anforderungen an die technische Sauberkeit und sorgt für eine zuverlässige Funktionalität der elektronischen Geräte.
